一、概念

      潔凈室工程對控制硅芯片等產(chǎn)品接觸的大氣清潔度、溫度和濕度至關重要，使產(chǎn)品能夠在稱為潔凈室的良好環(huán)境空間中生產(chǎn)和制造。按照國際慣例，無塵凈化水平主要是根據(jù)每立方米空氣中顆粒直徑大于分割標準的顆粒數(shù)來確定的。100%的無塵意味著完全沒有灰塵，而是以非常微量的單位控制。當然，在這個標準中，符合灰塵標準的粒子比我們常見的灰塵已經(jīng)很細微，但光學結構中的一些灰塵也會產(chǎn)生非常負面的影響，因此光學制作產(chǎn)品生產(chǎn)中沒有灰塵是必不可少的要求。

      每立方米小于0 . 3微米粒子大小的灰塵數(shù)量控制在3500個以下，達到國際無塵標準a級。目前適用于芯片級生產(chǎn)加工的無塵標準對灰塵的要求高于a級，這些高標準主要適用于某些更高的芯片生產(chǎn)。微塵的數(shù)量嚴格控制在每立方米1000個以內(nèi)。這在業(yè)界一般被稱為1k水平。

      二、潔凈室工程的用途主要有以下三種:

      空氣凈化室:已經(jīng)建好并可以運行的凈化室(設施)。具備所有相關的服務和功能。但是設施內(nèi)沒有操作員操作的設備。

      靜態(tài)潔凈室:功能齊全，安裝正確，可根據(jù)設置使用或使用的潔凈室(設施)，但設施中沒有操作員。

      動態(tài)清潔室:位于正常使用的清潔室中，可提供完整的維修功能、設備和人員，以及在需要時執(zhí)行正常工作。